TEICNEOLAÍOCHT HISEMI
Le déanaí, d'eisigh HISEMI TECHNOLOGY glúin nua de threalamh meilt agus snasta cruinneas saotharlainne dé-stáisiúin go hoifigiúil. Díríonn an táirge nua ar chásanna samplacha baisc bheaga meilt agus snasta d’ábhair chrua agus bhréige mar leathsheoltóirí tríú glúin, criostail optúla, agus criadóireacht speisialta, ag líonadh na bearna i logánú ard-chruinneas trealaimh ullmhúcháin sampla i dtaighde eolaíoch baile.
Tá forbairt na n-ábhar leathsheoltóra nua tar éis an t-éileamh ar mheilt agus snasta beachtas a spreagadh
Le leathnú tapa na dtionscal leathsheoltóra tríú glúin mar chomhdhúile sileacain (SiC) agus nítríd ghailliam (GaN), tá ollscoileanna móra, institiúidí taighde, agus saotharlanna T&F fiontair leathsheoltóra ag uasghrádú go leanúnach ar a gceanglas maidir le maoile an tsubstráit, cruinneas tiús, agus táscairí garbh an dromchla. Tá pointí pian ag trealamh meilt stáisiúin aonair traidisiúnta ar nós éifeachtacht phróiseála íseal, rialú brú míchothrom, agus droch-atrialltacht próisis. Tá fadhbanna ag trealamh meilt beachtais allmhairithe freisin cosúil le costais soláthair ard, timthriallta cothabhála fada, agus deacrachtaí maidir le saincheaptha agus claochlú. Bunaithe ar na riachtanais iarbhír a bhaineann le taighde agus forbairt ábhar nua baile, braitheann Hemei Semiconductor ar thaithí na mblianta i dtaighde agus forbairt trealaimh mheilt beachtas, déanann sé dearadh struchtúrach a bharrfheabhsú, agus cuireann sé an meaisín meilt agus snasta cliste dé-stáisiúin seo i bhfeidhm.
Baineann dearadh dé-stáisiúin feabhas ar éifeachtúlacht an phróisis
1. Dearadh neamhspleách dé-stáisiúin: Tá an trealamh feistithe le dhá shraith de stáisiúin oibre neamhspleácha, agus tá an daingneán oiriúnaithe (Jjg) feistithe le modúl monatóireachta tiús digiteach, is féidir monatóireacht a dhéanamh ar an méid a bhaint meilt samplach i bhfíor-am ar líne, le cruinneas 1 μ m agus brú daingneáin inchoigeartaithe. Is féidir leis an dearadh dé-stáisiún cruth an diosca a phróiseáil agus a choigeartú ag an am céanna, agus is féidir freisin líon níos mó samplaí a phróiseáil ag an am céanna, atá beagnach dhá uair chomh héifeachtach le próiseáil meaisín aonair traidisiúnta.
2. Glacann an córas rialaithe próiseas tadhaill Chliste córas oibriúcháin dteagmháil thionsclaíoch Huichuan INOVANCE, a thacaíonn le stóráil agus aisghabháil tacair iomadúla foirmlí próiseas meilt. Féadann sé luas an diosca meilt, an t-am meilt, an t-ualach brú, agus na paraiméadair spraeála leachtacha a mheilt a shocrú go cruinn, agus rochtain a fháil go héasca ar phróisis aibí le cliceáil amháin, ag laghdú go mór earráid dhaonna agus comhsheasmhacht i bpróiseáil samplach a chinntiú.
3. Tagann an córas soláthair leachtach cruinneas caighdeánach le 2 phíblíne braoiníní leachtacha meilt neamhspleácha, ar féidir leo earraí inchaite a sholáthar mar leacht meilt Diamond agus sreabhán snasta alúmana i bhfíor-am de réir an phróisis mheilt, an timpeallacht meilt dromchla a bharrfheabhsú, go laghdófar go héifeachtach briseadh imeall wafer agus scratches, agus oiriúnú do chineálacha éagsúla foshraitheanna crua agus brittle, mar shampla sliseoga sileacain, sapphires, cairbíd sileacain, criadóireacht piezoelectric.
4. Dearadh comhlacht um chaighdeánú sábháilteachta: Glacann an trealamh comhlacht cruthúnas meirge comhtháite, atá feistithe le cnaipe sábháilteachta stad éigeandála agus lasc cosanta cumhachta. Tá an struchtúr dlúth agus áitíonn sé limistéar beag, ag oiriúnú go foirfe do thimpeallacht socrúcháin countertop saotharlainne, ag cothromú cobhsaíocht trealaimh agus sábháilteacht oibriúcháin.
Ullmhú samplaí taighde a chlúdaíonn réimsí éagsúla
Tá an gléas nua seo dírithe go príomha ar thrí mhór-réimse iarratais:
1. Taighde agus forbairt leathsheoltóra tríú glúin: tanú tsubstráit SiC/Gan, snasta scátháin, a úsáidtear chun samplaí a ullmhú sula ndéantar tástáil ar airíonna fisiceacha agus ceimiceacha ábhartha agus airíonna leictreacha;
2. Optics agus Tionscal Criostail: Snasú beacht ar ghloine optúla, foshraitheanna sapphire, agus aghaidheanna deireadh criostail Grianchloch chun freastal ar riachtanais samplaí tástála feidhmíochta sciath optúla agus tarchurtha solais;
3. Réimse taighde na n-ábhar nua: meilt agus snasú ábhair neamhorgánacha speisialta neamh-mhiotalacha, mar shampla criadóireacht alúmana, niobate litiam, arsenide Gailliam, ábhair chomhchodacha diamanta, etc.
Dlús a chur leis an bpróiseas ionadú intíre de threalamh meilt cruinneas
Roimhe seo, bhí trealamh meilt bheachtais saotharlainne ardleibhéil sa tSín ag brath le fada ar mhúnlaí allmhairithe ón Eoraip, ó Mheiriceá agus ón tSeapáin. Tá cur i bhfeidhm an mheaisín meilt agus snasta dé-stáisiúin seo ag Hemei Semiconductor tar éis tagarmharcáil a dhéanamh ar tháirgí allmhairithe den chineál céanna i dtéarmaí cruinneas próiseála agus rialú cliste, agus laghdaigh sé go mór costais soláthair agus iar-oibriúcháin. Cuireadh an trealamh in úsáid trialach i roinnt ollscoileanna Dúbailte den Chéad Rang sa tSín, lena n-áirítear Scoil na hEolaíochta agus na Teicneolaíochta Ábhar, Príomh-Saotharlann Leathsheoltóirí Tríú Glúin, agus Lárionad T&F na bhFiontar Leathsheoltóra Cumhachta Ceannaireachta.
Léiríonn anailís tionscail, le luasghéarú ar phróiseas logánaithe leathsheoltóirí tríú glúin agus ard-ábhair optúla sa tSín, go bhfuil an t-éileamh ar logánú trealaimh réamhphróiseála cruinneas saotharlainne ag méadú i gcónaí. Leanann monaróirí trealaimh áitiúla ar aghaidh ag déanamh aithris ar a dteicneolaíocht, rud a bhrisfidh tuilleadh monaplacht na mbrandaí thar lear agus a fheabhsóidh an slabhra tacaíochta tionscail ábhar nua leathsheoltóra intíre.
